Kategori Produk
Hubungi kami

Haohai Logam Meterials Co, Ltd

Haohai Titanium Co, Ltd


Alamat:

Plant No.19, TusPark, Century Avenue,

Kota Xianyang, Shaanxi Pro., 712000, Cina


Tel:

+86 29 3358 2330

+86 29 3358 2349


Fax:

+86 29 3315 9049


E-mail:

Info@pvdtarget.com

Sales@pvdtarget.com



Layanan hotline
029 3358 2330

Berita

Rumah > BeritaKonten

Silicon Sputtering Target Key Performance Requirements

Apa persyaratan kinerja utama untuk target sputtering silikon?

Silikon sputtering menargetkan kemurnian

Kemurnian adalah salah satu indikator kinerja utama target sputtering silikon karena kemurnian target sputtering memiliki efek yang besar pada sifat film. Namun, dalam aplikasi praktis, persyaratan kemurnian untuk target sputtering silikon tidak sama. Sebagai contoh, dengan pesatnya perkembangan industri mikroelektronika, ukuran wafer dari 6 ", 8" sampai 12 ", dan lebar kabel dari 0.5um dikurangi menjadi 0.25um, 0.18um atau bahkan 0.13um, sebelum 99.995% dari sputtering silikon. Kemurnian target dapat memenuhi persyaratan proses 0.35umik, dan penyusunan garis 0.18um pada kemurnian target sputtering silikon membutuhkan 99,999% atau bahkan 99,9999%.

Silikon sputtering menargetkan konten Kekerasan

Silika sputtering Pengotor dalam padatan padat dan oksigen dan uap air di pori-pori merupakan sumber kontaminasi utama untuk film yang diendapkan. Persyaratan untuk kandungan pengotor yang berbeda dari target sputtering silikon untuk tujuan yang berbeda juga berbeda. Sebagai contoh, industri semikonduktor untuk target sputtering alumunium dan aluminium murni, kandungan alkali dan kandungan unsur radioaktif memiliki persyaratan khusus.

Kepadatan target sputtering silikon

Untuk mengurangi porositas padatan target sputtering silikon dan memperbaiki kinerja film yang tergagap, umumnya diinginkan agar target sputtering silikon memiliki kerapatan yang lebih tinggi. Kepadatan target sputtering tidak hanya mempengaruhi tingkat sputtering, tetapi juga mempengaruhi sifat listrik dan optik film. Semakin tinggi densitas target sputtering silikon, semakin baik kinerja film. Selain itu, meningkatkan kepadatan dan kekuatan target sputtering silikon memungkinkan target sputtering silikon lebih tahan terhadap tekanan termal selama sputtering. Densitas juga merupakan salah satu indikator kinerja utama target sputtering silikon.

Sasaran sputtering silikon Ukuran butir dan distribusi ukuran butiran

Biasanya target sputtering adalah struktur polikristalin dengan ukuran butir dalam urutan mikron sampai milimeter. Untuk jenis target sputtering silikon yang sama, tingkat sputtering dari target sputtering silikon halus lebih cepat daripada target sputtering silikon kasar. Tingkat sputtering kecil (distribusi seragam) Distribusi ketebalan film yang diendapkan lebih seragam.